Удаление двухслойного покрытия СДП1+ВСДП20 с поверхности деталей из стали ЭП866-Ш методом электролитно-плазменного полирования
DOI:
https://doi.org/10.54708/26587572_2024_631862Ключевые слова:
Электролитно-плазменное полирование, покрытие СДП1 ВСДП20, удаление покрытияАннотация
В данной статье приведены результаты подбора электролита для удаления 2-х слойного вакуумно-плазменного покрытия СДП1+ВСДП20 с подложки из стали ЭП866-Ш методом электролитно-плазменного полирования (ЭПП). В статье показано, что покрытиеСДП1+ВСДП20 имеет сложный химический состав, изменяющийся по глубине, в результате чего возникают проблемы с его удалением различными химическими и электрохимическими методами. В результате исследования установлено, что данное покрытие может быть удалено методом ЭПП при добавлении в электролит веществ, которые образуют легкорастворимые в воде комплексные соединения с ионами металлов, входящими в состав покрытия и подложки. Показано, что добавка лигандов, в количестве 0,5–2%, может обеспечить равномерное удаление покрытия СДП1+ВСДП20 без повреждения материала подложки.Загрузки
Опубликован
2024-13-12
Как цитировать
Плотников, Н. В., Таминдаров, Д. Р., Зырянова, К. А., & Смыслов, А. М. (2024). Удаление двухслойного покрытия СДП1+ВСДП20 с поверхности деталей из стали ЭП866-Ш методом электролитно-плазменного полирования . Materials. Technologies. Design, 6(3 (18), 62–72. https://doi.org/10.54708/26587572_2024_631862
Выпуск
Раздел
Статьи