Модификация кремния в условиях синергии высокоинтенсивной имплантации ионов титана и энергетического воздействия мощного ионного пучка на поверхность

Аннотация

Методы модификации поверхностных и приповерхностных слоев материалов и покрытийионными пучками находят применение во многих областях науки и техники. Развитие методовглубокого ионного легирования приповерхностных слоев полупроводниковых материалов,а также металлов и сплавов благодаря усилению радиационно-стимулированной диффузиив условиях, когда глубокие слои облучаемого образца не подвергаются значительному температурному воздействию, представляет значительный интерес для практической реализациитехнологий направленного улучшения эксплуатационных свойств деталей и изделий различного назначения. Настоящая работа посвящена исследованию особенностей и закономерностейреализации синергии высокоинтенсивной имплантации ионов титана при плотностях токав несколько сотен миллиампер на квадратный сантиметр с одновременным энергетическимвоздействием на поверхность пучка ионов субмиллисекундной длительности с плотностьюмощности, достигающей нескольких десятков киловатт на квадратный сантиметр. Впервыепоказано, что синергия высокоинтенсивной имплантации ионов и энергетического воздействия пучка ионов высокой плотности мощности, на примере имплантации титана в кремний,обеспечивает возможность роста глубины ионного легирования от долей мкм до 6 мкм за счетувеличения времени облучения от 0,5 до 60 мин.