Особенности распределения концентрации плазмы в газо-металлических пучково-плазменных образованиях

Авторы

  • Михаил Викторович Савчук ИСЭ СО РАН
  • Владимир Викторович Денисов
  • Юлия Александровна Денисова
  • Сергей Сергеевич Ковальский
  • Андрей Андреевич Леонов

DOI:

https://doi.org/10.54708/26587572_2024_641997

Ключевые слова:

вакуумно-дуговое напыление, плазменное ассистирование, упрочняющие покрытия, пучково-плазменное образование, газо-металлическая плазма

Аннотация

В данной работе исследуется азимутальные распределения концентрации заряженных частиц в газовом пучково-плазменном образовании и газо-металлическом пучково-плазменном образовании (ППО), а также в газовой и газо-металлической плазме в традиционной разрядной схеме для вакуумно-дугового плазменно-ассистированного напыления. Полученные значения коэффициента неоднородности для газо-металлического ППО и плазменном образовании, полученном в традиционной разрядной схеме, составляет 81% и 97% соответственно. Средняя температура электронов в разрядной схеме для генерации газо-металлических ППО составляет 2,3 эВ, а традиционной разрядной схеме температура электронов равна 1,5 эВ.

Загрузки

Опубликован

2024-23-12

Как цитировать

Савчук, М. В., Денисов, В. В., Денисова, Ю. А., Ковальский, С. С., & Леонов , А. А. (2024). Особенности распределения концентрации плазмы в газо-металлических пучково-плазменных образованиях. Materials. Technologies. Design, 6(4 (19), 97–107. https://doi.org/10.54708/26587572_2024_641997

Выпуск

Том 6 № 4 (19) (2024): Materials. Technologies. Design

Раздел

Статьи